We enable non-destructive highly-stable inspection for the semiconductor industry. Our patented add-on module transforms imaging systems into high-precision tools, delivering sub-nanometer vertical sensitivity in real time.
From the webinar: inVISION Day Metrology 2026
Dr.-Ing. Peter Ebert TeDo Verlag GmbH
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Kai-Udo Modrich EMVA / Newston
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Prof. Dr. Ing. Jörg Seewig RPTU
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Armin Jehle AT Sensors
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Niels Stenzel Shining 3D
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Dr. Peter Kühmstedt Fraunhofer IOF
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Ferenc Bögner und Fernando Schneider Kistler / AIT Goehner
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Nico Schulze Eleven Dynamics
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Sebastian Conchi Mahr
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Martina Blattl Bruker Alicona
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Dr. Paul-Gerald Dittrich Opto GmbH
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Hüseyin Serbes Metubiq
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Lorenz Butzhammer Universität Erlangen-Nürnberg Lehrstuhl für Fertigungsmesstechnik
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Dipl.-Ing. Tristan Schubert Werth Messtechnik
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Verena Pietzsch Wenzel Group
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Serge Carras Altimet
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Jérôme Ligot Optrion
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Christian Farmer Weldmetrix
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Stefan Hoheisel FARO|Creaform
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Dr.-Ing. Peter Ebert
Dr.-Ing. Peter Ebert
Kai-Udo Modrich
Kai-Udo Modrich
Prof. Dr. Ing. Jörg Seewig
Prof. Dr. Ing. Jörg Seewig
Armin Jehle
Armin Jehle
Niels Stenzel
Niels Stenzel
Dr. Peter Kühmstedt
Dr. Peter Kühmstedt
Ferenc Bögner und Fernando Schneider
Ferenc Bögner und Fernando Schneider
Nico Schulze
Nico Schulze
Sebastian Conchi
Sebastian Conchi
Martina Blattl
Martina Blattl
Dr. Paul-Gerald Dittrich
Dr. Paul-Gerald Dittrich
Hüseyin Serbes
Hüseyin Serbes
Lorenz Butzhammer
Lorenz Butzhammer
Dipl.-Ing. Tristan Schubert
Dipl.-Ing. Tristan Schubert
Verena Pietzsch
Verena Pietzsch
Serge Carras
Serge Carras
Jérôme Ligot
Jérôme Ligot
Christian Farmer
Christian Farmer
Stefan Hoheisel
Stefan Hoheisel
